本發(fā)明涉及一種去除金屬鉻膜后的光罩(PHOTO MASK)回收處理方法,其處理程序是將回收后含有金屬鉻膜的光罩經(jīng)過(guò)溶蝕去除光罩上的金屬鉻膜,并將光罩進(jìn)行洗凈烘干,再行檢測(cè)其光罩表面狀態(tài),研磨并去除光罩表面可能殘留的化學(xué)成份及異物,之后將經(jīng)過(guò)研磨后的光罩洗凈烘干,最后檢驗(yàn)符合標(biāo)準(zhǔn)。經(jīng)過(guò)這些工藝步驟后,可使回收后的光罩再生成為具利用價(jià)值的產(chǎn)品。
聲明:
“光罩回收處理方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)