本發(fā)明公開(kāi)了一種可以在沒(méi)有化學(xué)輔助的環(huán)境下取得高值高寬比的超高真空聚焦離子束微研磨設(shè)備及其工藝。一個(gè)超高真空腔(10)包括多個(gè)通口,用于觀察目標(biāo)襯底,對(duì)目標(biāo)襯底進(jìn)行鍍膜,插入或者操作目標(biāo)襯底,以及對(duì)目標(biāo)襯底進(jìn)行各種分析。通口(12)可以是一個(gè)具有用于攝影通口的通口(14)。此外,本發(fā)明公開(kāi)了一種采用微研磨工藝制作的耐久的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)介質(zhì),該耐久的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)介質(zhì)可以存儲(chǔ)諸如數(shù)字字符或字母字符以及圖形形體或圖形字符。
聲明:
“超高真空聚焦離子束微研磨及其制品” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)