本發(fā)明公開了一種
石墨烯納米孔洞的制備方法,屬于薄膜材料微納加工領(lǐng)域領(lǐng)域。該方法采用化學氣象沉積法(CVD)在金屬銅薄膜上制備石墨烯,利用石墨烯表面本征的缺陷結(jié)構(gòu)制備石墨烯納米孔洞,其孔徑大小可為幾納米至數(shù)百納米。該石墨烯納米孔洞具有精度高、孔洞深度在單原子水平、便于化學修飾、可導電、使用壽命長、成本低廉等諸多優(yōu)點。本發(fā)明將在單分子檢測、
電化學操控、生物識別等領(lǐng)域具有較大應(yīng)用。
聲明:
“石墨烯納米孔洞的制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)