本發(fā)明公開了一種晶圓承載裝置,包括晶圓承載臺、用于支撐晶圓承載臺的承載支柱、設置在承載支柱內(nèi)的緩沖裝置和預清洗裝置,還包括可旋轉(zhuǎn)、可豎直移動以及可水平移動的真空晶圓夾盤,真空晶圓夾盤四周還設置多個有限位夾具和驅(qū)動限位夾具相對于真空晶圓夾盤移動的驅(qū)動裝置,還包括設置在真空晶圓夾盤上的位置傳感器,利用可移動的限位夾具矯正晶圓相對于晶圓承載裝置的位置,從而在檢測系統(tǒng)不報警的情況下,依然能夠保證晶圓位置準確,避免在后續(xù)的工藝過程中晶圓相對目標位置錯位的情況發(fā)生,設置預清洗裝置,在晶圓卸載至晶圓承載臺之前對晶圓進行預清洗,去除晶圓表面殘留的化學液,避免殘留的化學液對已加工完成的晶圓產(chǎn)生腐蝕。
聲明:
“晶圓承載裝置” 該技術專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
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