本發(fā)明公開了一種縱向雙腔原子氣室及其制備方法,由玻璃、硅片、玻璃依次鍵合而成;所述原子氣室包括設(shè)在上層玻璃和硅片之間的上層氣室,與上層氣室相連通、刻蝕在硅片上的用于吹制上層氣室的凹槽,刻蝕在下層玻璃上的反應(yīng)室,與凹槽、反應(yīng)室向連通的過濾通道;所述凹槽的深度小于硅片的厚度;過濾通道包括刻蝕在硅片上的第一通道。本發(fā)明在化學(xué)反應(yīng)填充技術(shù)的基礎(chǔ)上設(shè)計(jì)了上檢測下反應(yīng)的縱向雙氣腔結(jié)構(gòu),在保留定量配比的同時(shí),縱向結(jié)構(gòu)優(yōu)化了氣室占地空間大小;縱向的結(jié)構(gòu)也會(huì)使得重力限制生成的雜質(zhì)向上層檢測氣室流通。
聲明:
“縱向雙腔原子氣室及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)