本發(fā)明提供一種研磨墊及使用了該研磨墊的半 導(dǎo)體器件的制造方法。即使在使用堿性料漿或酸性料漿進(jìn)行研 磨的情況下,也可以在從使用開始直至使用結(jié)束的長時間內(nèi)持 續(xù)維持高精度的光學(xué)終點(diǎn)檢測。本發(fā)明的研磨墊被用于化學(xué)機(jī) 械拋光中,具有研磨區(qū)域及透光區(qū)域,所述透光區(qū)域的浸漬于 pH11的KOH水溶液或pH4的 H2O2水溶液中24小時后的測定波長λ下的透光率 T1 (%)與浸漬前的測定波長λ 下的透光率T0 (%)的差ΔT(ΔT =T0- T1)(%),在測定波長400~ 700nm的全部范圍內(nèi)在10(%)以內(nèi)。
聲明:
“研磨墊及半導(dǎo)體器件的制造方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)