一種光催化原位表征系統(tǒng),用于光催化劑表面反應過程及有機物環(huán)境光化學過程研究,包括超高真空腔體、原位質譜模塊、原位反射紅外光譜模塊、能譜模塊、樣品表面刻蝕及清洗部件、樣品操縱臺、在線更換樣品部件、
真空泵組、原位光照組件和氣體進樣部件。利用本發(fā)明,可以對固相樣品表面進行原位刻蝕及清洗,并可以系統(tǒng)研究(光)催化反應過程中固相催化劑表面及氣固、液固界面上的反應細節(jié),如反應物吸附模式、分子特征基團變化、表面元素種類定性測試、催化反應或程序升溫過程中間產物原位定性定量檢測等。
聲明:
“光催化原位表征系統(tǒng)” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)