一種在鉬基片上沉積的釕薄膜及其制備方法,采用磁控濺射法在Mo襯底上制備了Ru薄膜,利用真空退火爐、EDS、XRD,臺階儀及納米劃痕儀等設(shè)備研究了不同退火溫度對Ru薄膜化學(xué)成分、相結(jié)構(gòu)、殘余應(yīng)力及膜基結(jié)合力的影響。結(jié)果表明,不同退火溫度處理下的Ru薄膜呈六方Ru結(jié)構(gòu),具有擇優(yōu)取向。當(dāng)退火溫度小于300℃時,退火有利于改善薄膜結(jié)晶質(zhì)量,起到釋放殘余應(yīng)力及提升膜基結(jié)合力的作用;隨退火溫度的進(jìn)一步升高,殘余應(yīng)力進(jìn)一步釋放,此外,Ru薄膜中檢測到了氧,薄膜中氧化相的出現(xiàn)導(dǎo)致膜基結(jié)合力降低。
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