一種化學(xué)氣相沉積方法包括下列步驟:提供高真空室,并且在高真空室內(nèi):放置基板表面;平行于基板表面放置掩模,其中掩模包括一個(gè)或多個(gè)開(kāi)口;調(diào)節(jié)基板表面和掩模之間的確定的尺寸的間隙;和利用視線(xiàn)傳播使至少一種前體物種的多個(gè)化學(xué)前體束朝向掩模取向,所述多個(gè)化學(xué)前體束中的每一個(gè)都從獨(dú)立的點(diǎn)狀源發(fā)出,并且化學(xué)前體的分子穿過(guò)一個(gè)或多個(gè)掩模開(kāi)口撞擊到基板表面上以沉積在其上。至少一部分化學(xué)前體分子在分解溫度下在基板表面上分解。該方法還包括調(diào)節(jié)基板表面的溫度使其高于或等于化學(xué)前體分子分解溫度,從而保持高于掩模溫度,并且將掩模溫度維持在分解溫度以下,從而導(dǎo)致在基板表面上但不在掩模上的化學(xué)前體的分解和膜的生長(zhǎng);和利用加熱裝置加熱基板表面。
聲明:
“基于模板掩模的沉積方法及在制造載有多功能可追溯代碼的標(biāo)簽上的應(yīng)用” 該技術(shù)專(zhuān)利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專(zhuān)利(論文)的發(fā)明人(作者)