根據(jù)預(yù)先設(shè)定好的初始設(shè)定開始利用熱化學(xué)反應(yīng)的半導(dǎo)體裝置的制造工藝,測定參與熱化學(xué)反應(yīng)的氣氛的狀態(tài)量,根據(jù)由該測定所獲得的測定數(shù)據(jù),解析氣氛的狀態(tài)及其變化,把由該解析得到的解析數(shù)據(jù)反饋給制造工藝。
聲明:
“半導(dǎo)體裝置的制造方法、半導(dǎo)體裝置的制造裝置及其控制方法和控制裝置,以及半導(dǎo)體裝置的制造工藝的模擬方法和模擬裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)