本發(fā)明公開了一種熔石英光學基底表面氟化物薄膜的快速脫膜方法,屬于光學元件制備方法技術領域,該方法利用復分解反應或絡合反應,在室溫或加熱條件下反應,使熔石英光學基底表面氟化物發(fā)生化學反應而被徹底清除,熱水浴中反應除膜,最快僅需20-30分鐘,溫水浴中除膜需1.5-2.5小時,室溫除膜需3-7小時。脫膜后與未鍍膜光學基底相比表面粗糙度無明顯變化,亦無可探測物理或化學損傷。
聲明:
“熔石英光學基底表面氟化物薄膜快速脫膜方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
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