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鍍敷解析方法、鍍敷解析系統、及用于鍍敷解析的計算機可讀存儲介質

921   編輯:管理員   來源:中冶有色技術網  
2023-03-19 08:14:36
本發(fā)明提供一種能夠求出電鍍膜的膜厚分布的鍍敷解析方法、鍍敷解析系統、及用于鍍敷解析的計算機可讀存儲介質。鍍敷解析方法包含:在電鍍裝置中進行電化學測定的步驟;從上述電化學測定的結果導出電化學參數的步驟;對進行鍍敷處理時的鍍敷條件進行特定的步驟;基于上述電化學參數及上述鍍敷條件來確定作為鍍敷處理對象的基板的表面的電流密度分布的步驟,其中上述電流密度分布通過將上述基板上的位置設為變量的規(guī)定函數式來表述;和基于上述電流密度分布來計算出會被鍍敷在上述基板上的膜厚的步驟。
聲明:
“鍍敷解析方法、鍍敷解析系統、及用于鍍敷解析的計算機可讀存儲介質” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯系該技術所有人。
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