在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中,說明了一種形成
儲(chǔ)能設(shè)備的方法,其中,在
電化學(xué)蝕刻浴中電化學(xué)蝕刻導(dǎo)電襯底的多孔結(jié)構(gòu)的同時(shí)原位測(cè)量導(dǎo)電襯底的多孔結(jié)構(gòu),直到獲得預(yù)定值為止,此時(shí)可以從電化學(xué)蝕刻浴中移出導(dǎo)電襯底。在另一個(gè)實(shí)施例中,說明了一種形成儲(chǔ)能設(shè)備的方法,其中,測(cè)量導(dǎo)電多孔結(jié)構(gòu)以確定導(dǎo)電多孔結(jié)構(gòu)的儲(chǔ)能容量。隨后減小導(dǎo)電多孔結(jié)構(gòu)的儲(chǔ)能容量,直到獲得預(yù)定儲(chǔ)能容量值為止。
聲明:
“克服疊層電容器中的偏差” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)