本發(fā)明公開(kāi)了一種使用激光干涉反饋的超長(zhǎng)金屬帶式光柵尺刻劃系統(tǒng),主要包括:為金屬帶覆膜的覆膜單元,使用激光在覆膜金屬帶預(yù)設(shè)位置刻劃掉覆膜的激光蝕刻單元以及通過(guò)化學(xué)/
電化學(xué)手段腐蝕掉覆膜金屬帶中被激光刻劃掉覆膜位置的金屬,最終形成光柵尺的金屬蝕刻單元,以及保證金屬帶依次經(jīng)過(guò)上述機(jī)構(gòu)的傳輸機(jī)構(gòu)。激光蝕刻單元中設(shè)有夾持金屬帶沿工作方向運(yùn)動(dòng)的夾持模塊,該模塊作為金屬帶主要的前進(jìn)動(dòng)力源。同時(shí)為了保證能夠高精度的測(cè)量夾持模塊的運(yùn)動(dòng)距離,以使得運(yùn)動(dòng)距離和光柵刻劃位置精確對(duì)應(yīng),激光蝕刻單元中還設(shè)有激光干涉測(cè)量模塊和輸出激光的激光模塊。
聲明:
“使用激光干涉反饋的超長(zhǎng)金屬帶式光柵尺刻劃系統(tǒng)” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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