一種用于化學(xué)機(jī)械平坦化(CMP)系統(tǒng)的溫度控制系統(tǒng),該CMP系統(tǒng)包含一線性拋光帶(102)、一可將基板(104)施加至該線性拋光帶上方的一制備位置上的承載器(108)。該溫度控制系統(tǒng)包含一平臺(tái)(110),具有多個(gè)區(qū)域。該溫度控制系統(tǒng)還包含一溫度傳感器(160),用來測(cè)定該線性拋光帶在該制備位置之后一位置的溫度。該溫度控制系統(tǒng)更包含一控制器(150),用來響應(yīng)于由該溫度傳感器接收的輸出來調(diào)整溫度調(diào)整過的流體向該平臺(tái)的該多個(gè)區(qū)域的選定區(qū)域的流動(dòng)。
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