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中紅外非線性光學(xué)晶體材料KBi4F13及其制備方法和應(yīng)用

1122   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 08:17:30
本發(fā)明公開了一種中紅外非線性光學(xué)晶體材料,其化學(xué)式為KBi4F13,上述材料的晶體空間群為I-4,晶胞參數(shù)為a=9.2027(19)b=9.2027(19)c=6.2589(13)α=β=γ=90°、Z=2。本發(fā)明還提供了上述晶體材料的水熱法制備方法,本發(fā)明制得的中紅外非線性光學(xué)晶體材料具有能相位匹配的倍頻效應(yīng)(SHG),Kurtz粉末倍頻測試結(jié)果表明其粉末倍頻效應(yīng)與磷酸二氫鉀(KDP)相當(dāng);粉末的激光傷閾值為120MW/cm2,是目前的商用的中紅外非線性光學(xué)晶體材AgGaS2的激光損傷閾值的23倍以上;在可見光區(qū)和中紅外光區(qū)有較寬的透過范圍,完全透過波段為0.27~14微米;不含結(jié)晶水,對空氣穩(wěn)定,且熱穩(wěn)定性較好;可利用水熱法制備單晶材料。
聲明:
“中紅外非線性光學(xué)晶體材料KBi4F13及其制備方法和應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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