提供一種裝置和方法,該裝置和方法用于在化學(xué)氣相沉積反應(yīng)室內(nèi)提供充分均勻的襯底溫度。該方法和裝置利用一個(gè)基架(110)固定反應(yīng)室內(nèi)的襯底(160),以及將多個(gè)加溫元件(120,130,140)安置成能加熱該基架和襯底。襯底高溫計(jì)(138,139)測(cè)量襯底的溫度以提供一個(gè)表示加工溫度的信號(hào)。該信號(hào)用在反饋回路(151,134,132)中,控制一個(gè)或多個(gè)加溫元件。提供至少兩個(gè)對(duì)準(zhǔn)在基架不同區(qū)域的基架高溫計(jì)(126,136,146)。比較來(lái)自基架高溫計(jì)的信號(hào)以提供一個(gè)不均勻溫度的指示。該指示用于一個(gè)單獨(dú)的反饋回路(149,124,122)內(nèi),調(diào)整其他的加溫元件,以保持基架上溫度的均勻性。
聲明:
“控制襯底溫度均勻性的裝置和方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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