本發(fā)明屬于光學(xué)薄膜低折射技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種SiO2薄膜紅外特征吸收峰數(shù)量確定方法。本發(fā)明涉及光學(xué)薄膜在紅外特征吸收峰疊加情況,對(duì)疊加吸收峰數(shù)量的精確分解方法,具體提出一種對(duì)薄膜材料紅外特征吸收光譜吸收峰數(shù)量的確定方法,其將不同的吸收峰等效為化學(xué)物質(zhì)的成分,利用紅外光譜測(cè)量技術(shù)確定化學(xué)物質(zhì)成分組成的原理,對(duì)薄膜樣品進(jìn)行處理后進(jìn)行吸收峰數(shù)量的確定。本發(fā)明優(yōu)點(diǎn)是在于可以準(zhǔn)確確定薄膜的吸收峰數(shù)量,特別是對(duì)于相近吸收峰疊加的情況效果最為明顯。由此,本發(fā)明提出通對(duì)吸收峰的分解方法,實(shí)現(xiàn)能夠精確確定吸收峰的疊加數(shù)量,為材料介電常數(shù)的反演計(jì)算奠定技術(shù)基礎(chǔ)。
聲明:
“SiO2薄膜紅外特征吸收峰分峰數(shù)量確定方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)