一種產(chǎn)生矩陣以將化學(xué)機(jī)械拋光系統(tǒng)的多個(gè)可控制參數(shù)與拋光速率分布相關(guān)的方法包括拋光測(cè)試基板。使用將第一參數(shù)設(shè)置為第一值的基線參數(shù)值,來針對(duì)第一時(shí)間段拋光測(cè)試基板,并且使用將第一參數(shù)設(shè)置為修改的第二值的第一修改參數(shù)值,來針對(duì)第二時(shí)間段拋光測(cè)試基板。在拋光期間監(jiān)控測(cè)試基板的厚度,并且針對(duì)第一時(shí)間段決定基線拋光速率分布,并且針對(duì)第二時(shí)間段決定第一修改拋光速率分布?;诨€參數(shù)值、第一修改參數(shù)、基線拋光速率分布和第一修改拋光速率分布,來計(jì)算矩陣。
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“普雷斯頓矩陣產(chǎn)生器” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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