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使用高光譜成像的半導(dǎo)體過(guò)程的光學(xué)診斷

752   編輯:管理員   來(lái)源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 08:30:12
披露了一種用于光學(xué)地診斷半導(dǎo)體制造過(guò)程的改進(jìn)的設(shè)備和系統(tǒng)以及相關(guān)聯(lián)的方法的實(shí)施例。在等離子體加工系統(tǒng)中,使用高光譜成像系統(tǒng)來(lái)采集來(lái)自等離子體的發(fā)射的光譜解析圖像。采集的高光譜圖像可以用來(lái)確定等離子體的化學(xué)成分和等離子體過(guò)程端點(diǎn)。替代地,高光譜成像系統(tǒng)用來(lái)在加工之前、期間或之后采集襯底的光譜解析圖像,以確定襯底或在襯底上形成的層和特征的特性,包括是否已經(jīng)達(dá)到過(guò)程端點(diǎn);或者在加工之前或之后,用于檢查襯底狀況。
聲明:
“使用高光譜成像的半導(dǎo)體過(guò)程的光學(xué)診斷” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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