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介質(zhì)光柵結(jié)構(gòu)單波長(zhǎng)反射光吸收傳感芯片及其制造方法

812   編輯:管理員   來(lái)源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 08:30:15
本發(fā)明公開(kāi)了一種介質(zhì)光柵結(jié)構(gòu)單波長(zhǎng)反射光吸收傳感芯片及其制造方法。該介質(zhì)光柵結(jié)構(gòu)單波長(zhǎng)反射光吸收傳感芯片自下至上依次包括石英襯底、SiO2+TiO2雙層光柵結(jié)構(gòu)和微流通道,其中所述微流通道是扣置鍵合于該SiO2+TiO2雙層光柵結(jié)構(gòu)之上。本發(fā)明提供的這種介質(zhì)光柵結(jié)構(gòu)單波長(zhǎng)反射光吸收傳感芯片及其制造方法,實(shí)現(xiàn)了器件體積的微型化,節(jié)約了化學(xué)試劑;通過(guò)光柵的波長(zhǎng)選擇性反射,采用LED白光光源,就可以實(shí)現(xiàn)寬波長(zhǎng)照明單波長(zhǎng)反射功能,同時(shí)改變光柵結(jié)構(gòu)參數(shù)就可以實(shí)現(xiàn)不同波長(zhǎng)反射,由于光吸收傳感測(cè)試精度與光譜寬度有關(guān),因此通過(guò)測(cè)量單波長(zhǎng)反射信號(hào)進(jìn)行吸光度測(cè)量有利于提高傳感芯片的靈敏度。
聲明:
“介質(zhì)光柵結(jié)構(gòu)單波長(zhǎng)反射光吸收傳感芯片及其制造方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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