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寬波段薄膜高吸收體、制備方法及裝置

840   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 08:56:51
本發(fā)明公開了一種可見到近紅外波段高效光吸收體、制備方法及裝置,該吸收體包括襯底和在襯底上依次沉積的金屬薄膜層、電介質(zhì)薄膜層和氮化鈦薄膜層,所述氮化鈦薄膜層表面為經(jīng)過激光處理的顆粒表層。本發(fā)明利用飛秒激光照射金屬?電介質(zhì)?氮化鈦薄膜,可誘導(dǎo)與空氣接觸的氮化鈦薄膜層的化學(xué)反應(yīng),產(chǎn)生氧化物顆粒的堆積,形成粒徑(幾十到幾百納米)隨機(jī)分布的氧化鈦顆粒。本發(fā)明采用的氮化鈦薄膜具有價(jià)格便宜、損傷閾值高等優(yōu)點(diǎn)。利用激光處理表面形成自組織微納結(jié)構(gòu)具有偏振不敏感,制造工藝簡單,可在任意指定位置快速制備任意形狀的高吸收體等優(yōu)點(diǎn)。本發(fā)明在太陽能收集、光催化增強(qiáng)、超快光電探測器件等領(lǐng)域具有廣泛的商用前景。
聲明:
“寬波段薄膜高吸收體、制備方法及裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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