本發(fā)明提供了一種基板處理設備。所述基板處理設備包括:液體處理腔室,所述液體處理腔室被配置為利用液體處理基板;干燥腔室,所述干燥腔室被配置為干燥經液體處理的基板;傳送機器人,所述傳送機器人被配置為在所述液體處理腔室與所述干燥腔室之間傳送所述基板,并且包括能夠沿X軸、Y軸和Z軸移動并且基于所述Z軸可旋轉地驅動的手部,并且所述基板放置在所述手部上;光學系統(tǒng),所述光學系統(tǒng)被配置為拍攝所述基板的液膜的形態(tài),其中當所述基板從所述液體處理腔室傳送到所述干燥腔室時,所述基板用化學液體潤濕并且在形成液膜的狀態(tài)下由所述傳送機器人傳送;以及控制器,所述控制器被配置為測量由所述光學系統(tǒng)拍攝的所述液膜的所述形態(tài)。
聲明:
“基板處理設備和基板傳送機器人” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯系該技術所有人。
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