本發(fā)明屬于電磁屏蔽實現(xiàn)技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種內(nèi)嵌式金屬網(wǎng)柵的電磁屏蔽光學(xué)窗制備方法。該方法包含:(1)通過物理和化學(xué)方法清洗光學(xué)窗表面;(2)采用電子束蒸發(fā)方法生長制備Y
2O
3薄膜;(3)熱處理鍍膜后的光學(xué)窗口,使薄膜表面產(chǎn)生隨機(jī)分布的網(wǎng)狀裂紋;(4)在開裂的薄膜表面沉積金屬薄膜;(5)采用等離子體大角度傾斜刻蝕方法,通過控制傾斜刻蝕時間,有效去除基底表面金屬層,僅保留裂紋內(nèi)部嵌入的金屬材料。該方法不但適應(yīng)平面光學(xué)窗,而且可以在曲面光學(xué)窗表面實現(xiàn)可見、或紅外電磁屏蔽效果,在遙感遙測、航天航空、移動通信等軍事和民用領(lǐng)域具有廣泛應(yīng)用前景。
聲明:
“內(nèi)嵌式金屬網(wǎng)柵的電磁屏蔽光學(xué)窗制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)