本實(shí)用新型涉及等離子化學(xué)氣相沉積技術(shù)領(lǐng)域,公開了壓力控制系統(tǒng)及應(yīng)用了該壓力控制系統(tǒng)的等離子體沉積設(shè)備。其中,壓力控制系統(tǒng)包括:與真空腔體通過真空管道連接的
真空泵,真空管道上設(shè)置有電控制閥門;用于測量真空腔體的真空度的真空計(jì),真空計(jì)和電控制閥門通過可編程序控制器通信連接。本實(shí)用新型所提供的壓力控制系統(tǒng)能夠自發(fā)調(diào)節(jié)真空腔體內(nèi)的壓力,使得氣壓保持在一定范圍內(nèi)。
聲明:
“壓力控制系統(tǒng)和等離子體沉積設(shè)備” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)