本發(fā)明公開(kāi)了一種衍射裝置和無(wú)損檢測(cè)工件內(nèi)部晶體取向均勻性的方法，裝置包括X射線照射系統(tǒng)，其對(duì)被測(cè)樣品的測(cè)量部位照射X射線；X射線探測(cè)系統(tǒng)，其同時(shí)對(duì)X射線由被測(cè)樣品的多個(gè)部位衍射而形成的多條衍射X射線進(jìn)行探測(cè)，來(lái)測(cè)量被測(cè)樣品的X射線衍射強(qiáng)度分布；探測(cè)的X射線為短波長(zhǎng)特征X射線；X射線探測(cè)系統(tǒng)為陣列探測(cè)系統(tǒng)；方法步驟包括：選短波長(zhǎng)特征X射線，對(duì)待測(cè)樣品進(jìn)行織構(gòu)分析，確定待測(cè)衍射矢量Q；獲取被測(cè)樣品相應(yīng)部位的X射線衍射強(qiáng)度。本發(fā)明可以快速無(wú)損地檢測(cè)厘米級(jí)厚度工件在其整個(gè)厚度方向的內(nèi)部晶體取向均勻性，可以在生產(chǎn)線上實(shí)現(xiàn)厘米級(jí)厚度工件在其運(yùn)動(dòng)軌跡的整個(gè)厚度方向的內(nèi)部晶體取向均勻性的在線檢測(cè)與表征。