本實(shí)用新型提供一種雙光路X射線無損檢測(cè)裝置,包括放射源、前準(zhǔn)直器、測(cè)量臺(tái)、被測(cè)工件、后準(zhǔn)直器、線陣探測(cè)器、康普頓探測(cè)器、保護(hù)外殼以及控制系統(tǒng),其中前準(zhǔn)直器為無散射狹縫,后準(zhǔn)直器為高分辨率的多平行束準(zhǔn)直器。測(cè)量時(shí),通過控制系統(tǒng)控制測(cè)量臺(tái)進(jìn)行圓周方向步進(jìn)轉(zhuǎn)動(dòng)和豎直方向的移動(dòng),放射源、前準(zhǔn)直器、后準(zhǔn)直器、線陣探測(cè)器、康普頓探測(cè)器的中心延長(zhǎng)線均指向被測(cè)工件上的檢測(cè)部位;所述后準(zhǔn)直器設(shè)于康普頓探測(cè)器和線陣探測(cè)器前端以排除雜散射線。本實(shí)用新型使用兩條光路,不但可以進(jìn)行工件整體分析,還可以進(jìn)行工件表面分析,分辨率高,可進(jìn)行不同倍數(shù)的放大掃描,使用方便。
聲明:
“雙光路X射線無損檢測(cè)裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)