本發(fā)明公開(kāi)了一種金屬電導(dǎo)率渦流檢測(cè)方法,包括以下步驟:1)選擇電導(dǎo)率分別為σ1、σ2的兩個(gè)試件作為標(biāo)準(zhǔn)試件;2)綜合考慮以確定合適的激勵(lì)頻率f;3)將連接阻抗分析儀的探頭分別置于兩個(gè)標(biāo)準(zhǔn)試件的上方,測(cè)得阻抗:Z1=R1+X1,Z2=R2+X2;4)通過(guò)厚度為1mm的標(biāo)準(zhǔn)墊片分別測(cè)得探頭置于兩個(gè)標(biāo)準(zhǔn)試件上方提離為1mm時(shí)的阻抗:ZT1=RT1+XT1,ZT2=RT2+XT2,將其作為基準(zhǔn),與3)中的阻抗值差分處理,構(gòu)造關(guān)鍵點(diǎn)A、B;5)由A、B兩點(diǎn)得出目標(biāo)函數(shù)。6)對(duì)待檢金屬按以上步驟操作得到|ΔX/ΔR|并帶入5)中得出的目標(biāo)函數(shù)以求電導(dǎo)率σ。本發(fā)明采用渦流技術(shù)檢測(cè)金屬電導(dǎo)率,對(duì)試件無(wú)損,檢測(cè)環(huán)境要求低,檢測(cè)精度高,檢測(cè)小電導(dǎo)率金屬材料分辨率高,并且檢測(cè)時(shí)所需參數(shù)少,同時(shí)克服了現(xiàn)有金屬電導(dǎo)率
檢測(cè)儀需要校準(zhǔn)的局限性。
聲明:
“金屬電導(dǎo)率渦流檢測(cè)方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)