本發(fā)明公開了一種弱熒光成像條件下的熔石英亞表面缺陷高分辨成像方法,包括構(gòu)建一缺陷檢測裝置;連續(xù)激光束60°?70°入射到樣品表面,在離軸照明模式下,使樣品的表面及亞表面缺陷在EMCCD中清晰成像。本發(fā)明針對樣品亞表面的缺陷具有極低的熒光量子產(chǎn)額及傳統(tǒng)成像CCD無法響應(yīng)弱熒光的問題,確定其熒光缺陷的激發(fā)光譜以及發(fā)射光譜特性,在此基礎(chǔ)上選擇合適的激發(fā)波長光源及探測器,采用離軸照明模式,克服了同軸照明方式下雜散光嚴(yán)重干擾目標(biāo)弱熒光信號,無法高分辨成像的問題;結(jié)合所測樣品的透反率、菲涅爾反射、激光能量等因素,確定了最佳的入射角度,本發(fā)明可實現(xiàn)對熔石英光學(xué)元件快速、無損、高分辨、大面積成像檢測。
聲明:
“弱熒光成像條件下的熔石英亞表面缺陷高分辨成像方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)