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控制微流控芯片內(nèi)部親水化修飾效果的方法

849   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 08:58:50
一種控制微流控芯片內(nèi)部親水化修飾效果的方法,屬于微流控芯片親水化控制技術(shù)領(lǐng)域,本發(fā)明基于兩個(gè)硼酸基團(tuán)修飾的聚集誘導(dǎo)發(fā)光分子和含有羥基的聚乙烯醇(PVA)的特異性、選擇性識別作用,對經(jīng)過親水化處理的微流控芯片內(nèi)部進(jìn)行熒光可視化成像標(biāo)記,并通過熒光顯微鏡或激光共聚焦顯微鏡對其內(nèi)部熒光強(qiáng)度及分布情況進(jìn)行測量分析控制條件。本方法實(shí)現(xiàn)了對微流控芯片中微孔道的原位可視化控制,可解決傳統(tǒng)測量中無法對芯片內(nèi)部實(shí)施原位檢測的難題,是一種安全、無損、快速有效的可視化識別方法,可廣泛應(yīng)用于材料中對親水化處理效果的快速篩查。
聲明:
“控制微流控芯片內(nèi)部親水化修飾效果的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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