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局部液浸式相控陣線陣探頭楔塊

836   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 08:58:52
局部液浸式相控陣線陣探頭楔塊,它涉及一種相控陣線陣探頭楔塊,具體涉及一種局部液浸式相控陣線陣探頭楔塊。本發(fā)明為了解決現(xiàn)有相控陣超聲使用的楔塊都是一個整體,在探頭橫向受限的位置做扇形掃描時需要更換不同的角度,才能采集到所需要的扇掃數(shù)據(jù)的問題。本發(fā)明的楔塊上副設(shè)置在楔塊下副上的弧形凹面上,楔塊下副設(shè)置在耦合劑充液盒內(nèi),楔塊下副的斜面上設(shè)有第一阻尼材料層,楔塊上副的第一斜面上設(shè)有第二阻尼材料層,楔塊上副的第二斜面上上開有四個相控陣探頭接口,楔塊上副的第二斜面上標有轉(zhuǎn)動指針刻線,楔塊下副與轉(zhuǎn)動指針刻線相對應的一側(cè)面上標有轉(zhuǎn)動刻度。本發(fā)明屬于相控陣超聲波無損檢測領(lǐng)域。
聲明:
“局部液浸式相控陣線陣探頭楔塊” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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