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柵氧化層失效點(diǎn)的定位方法

866   編輯:管理員   來(lái)源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 08:59:34
本發(fā)明公開(kāi)的一種柵氧化層失效點(diǎn)的定位方法,通過(guò)于去除金屬層后,采用中高加速電壓形成的電子束掃描去除金屬層后待測(cè)半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)得到一具有失效點(diǎn)圖形電鏡圖,并根據(jù)該電鏡圖確定失效點(diǎn)在柵氧化層中的位置,從而能夠更精確的定位柵氧化層的擊穿點(diǎn),進(jìn)而有效的提高了柵氧化層擊穿電壓測(cè)試失效分析的成功率,進(jìn)一步縮短了后續(xù)透射電鏡樣品的制備時(shí)間,提高了柵氧化層擊穿電壓測(cè)試失效分析的效率,給需要精確定位的透射電鏡樣品的制備提供了必要的條件,且在無(wú)法使用光學(xué)定位機(jī)臺(tái)時(shí),仍然可以精確定位柵氧化層的擊穿點(diǎn)以及柵氧化層的失效分析。
聲明:
“柵氧化層失效點(diǎn)的定位方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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