本發(fā)明旨在幫助避免在熱處理時的晶片損失。晶片具有每批高達150000歐元的價值。因此,應不再出現用于處理晶片的熱學裝置的意外失效。監(jiān)控用于對晶片組或晶片批次進行容納和退火的(多個)熱學裝置100的所提出的方法在熱學裝置的多個加熱區(qū)1′、2′、3′、4′、5′中的至少一個加熱區(qū)1′中使用對電阻值R
1持續(xù)施加的測量。將在所屬的加熱區(qū)1′中的電阻1的各當前測量的值R
1(i)與同一電阻1的之前測量的值R
1(i?1)進行比較。在出自相同的加熱區(qū)1′的兩個電阻值通過比較檢測出偏差ΔR
i的情況下就已生成用于熱學裝置100的警告或警報90,所述警告或警報在時間上處于在熱學裝置100中的整個加熱區(qū)1失效之前。另一目的是資源的更好的可規(guī)劃性。
聲明:
“多區(qū)立式爐的實時監(jiān)視與及早識別熱區(qū)元件的失效” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)