提供一種用于等離子處理室的失效檢測方法。該方法包括檢測該等離子室內(nèi)的等離子參數(shù)和分析所得到的信息。這種分析使得能夠檢測如工藝副產(chǎn)物聚集、氦泄漏、匹配重調(diào)諧時間、差穩(wěn)定速率和等離子限制損失的失效。還使得能夠在該晶片處理過程中進(jìn)行失效模式診斷。該方法包括測量該等離子參數(shù)與時間的函數(shù)和分析得到的數(shù)據(jù)??衫萌缣结樀奶綔y器進(jìn)行監(jiān)測,該探測器優(yōu)選地保持在該等離子室內(nèi)基本上與該室內(nèi)的表面共面并且直接測量凈離子通量和其他等離子參數(shù)。
聲明:
“檢測等離子處理反應(yīng)器的故障狀況的方法和設(shè)備” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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