本發(fā)明提供了一種透射電鏡樣品的制備方法及觀測(cè)方法,制備方法包括如下步驟:提供待觀測(cè)
芯片,所述待觀測(cè)芯片包括失效地址單元;通過(guò)電子束在所述失效地址單元上形成第一保護(hù)層;在所述待觀測(cè)芯片上形成一標(biāo)記,所述標(biāo)記在所述第一保護(hù)層一側(cè);通過(guò)離子束在所述第一保護(hù)層和所述標(biāo)記上形成第二保護(hù)層。在本發(fā)明提供的透射電鏡樣品的制備方法及觀測(cè)方法中,可以通過(guò)所述標(biāo)記標(biāo)出出失效地址單元的位置,從而對(duì)制得的透射電鏡樣品觀測(cè)時(shí),能夠快速準(zhǔn)確的找到失效地址單元,通過(guò)兩層保護(hù)層能夠有效的保護(hù)失效地址單元不受其它操作的影響,通過(guò)離子束形成的第二保護(hù)層較通過(guò)電子束形成的第一保護(hù)層更致密,從而既能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)于失效地址單元的有效保護(hù)。
聲明:
“透射電鏡樣品的制備方法及觀測(cè)方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)