本發(fā)明公開了一種陣列基板和顯示裝置,該陣列基板中,包括形成在源漏電極層的對(duì)位標(biāo)記,并在像素電極和鈍化層中對(duì)應(yīng)于對(duì)位標(biāo)記的區(qū)域形成檢測(cè)孔,這樣可以通過將電子束照射到檢測(cè)孔中實(shí)現(xiàn)對(duì)對(duì)位標(biāo)記進(jìn)行正常檢測(cè)。并且,由于在對(duì)位標(biāo)記和公共電極線之間僅包含柵極絕緣層和刻蝕保護(hù)層,這樣就僅需要一次干法刻蝕就能實(shí)現(xiàn)對(duì)位標(biāo)記與公共電極的連接,從而解決了多次干法刻蝕制作同一過孔導(dǎo)致的過孔側(cè)壁坡度不一致問題,減小像素電極在過孔側(cè)壁發(fā)生斷裂引起檢測(cè)圖形失效的可能性。
聲明:
“陣列基板及其制作方法和顯示裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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