一種在化學(xué)機械研磨中監(jiān)測界面的方法,包括如下步驟:提供一晶圓,所示晶圓表面具有襯墊層以及設(shè)置于襯墊層表面的待研磨層;對待研磨層實施化學(xué)機械研磨,并在實施化學(xué)機械研磨的工藝過程中監(jiān)測研磨面的反射率信息,繪制反射率與研磨時間的曲線;每隔固定的時間計算并記錄該曲線終點處的斜率;根據(jù)記錄的斜率值確定是否停止實施化學(xué)機械研磨。本發(fā)明的優(yōu)點在于,采用檢測斜率值的變化的手段代替現(xiàn)有技術(shù)中采用反射率曲線作為判斷標(biāo)準(zhǔn)的方法來判斷研磨的實施情況,并適時停止于界面或者其他指定的位置,避免出現(xiàn)監(jiān)控失效。
聲明:
“研磨方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)