本發(fā)明提供了一種低介電常數(shù)阻擋層工藝中的預(yù)處理的監(jiān)控方法以及監(jiān)控裝置,該方法包括:檢測進行了不同時間的預(yù)處理后的硅襯底的多個薄膜參數(shù);根據(jù)所述多個薄膜參數(shù)建立統(tǒng)計過程控制曲線;設(shè)定預(yù)設(shè)有閾值的控制線;如果所述統(tǒng)計過程控制曲線的范圍在所述閾值之內(nèi),則判定所述預(yù)處理正常;如果所述統(tǒng)計過程控制曲線的范圍超出所述閾值,則判定所述預(yù)處理不正常。本發(fā)明可有效預(yù)防預(yù)處理工藝的失效,從而提高產(chǎn)品的可靠性與穩(wěn)定性。
聲明:
“低介電常數(shù)阻擋層工藝中的預(yù)處理的監(jiān)控方法及裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)