權利要求

1.一種氮化鋁覆鋁陶瓷基板生產(chǎn)工藝，其特征在于：包括以下步驟：

S1、混合氮化鋁粉末與納米增強劑，使用高精度混合設備確保均勻分散，以形成混合漿料;

S2、采用流延設備將混合漿料制成均勻薄膜，并且在流延設備上將漿料間歇的進行隔段打孔，以增大部分位置的薄膜表面接觸面積;

S3、對薄膜采用熱等靜壓燒結工藝，并使帶孔的薄膜位于最上方，在高溫高壓下處理以形成表面帶凹槽的基板;

S4、對表面帶凹槽的基板進行等離子處理，然后通過真空濺射技術，均勻沉積鋁層在基板表面，以進行覆鋁處理;

S5、將覆鋁處理后的基板使用激光切割設備進行精確加工。

2.根據(jù)權利要求1所述一種氮化鋁覆鋁陶瓷基板生產(chǎn)工藝，其特征在于：所述納米增強劑為碳納米管和石墨烯的混合物。

3.根據(jù)權利要求1所述一種氮化鋁覆鋁陶瓷基板生產(chǎn)工藝，其特征在于：所述流延設備包括臺座(1)、安裝于臺座(1)內(nèi)部前側的驅動主體(2)、連接于驅動主體(2)頂側左部的輸送帶(3)、安裝于輸送帶(3)內(nèi)部前后兩側的兩個張緊輥(4)以及從后至前依次排列設置于臺座(1)頂部的漿液箱(5)、緊壓機構(7)、打孔機構(8)和蒸發(fā)主體(9)，所述漿液箱(5)前側壁底部緊固有刮刀(6)，所述輸送帶(3)安裝于臺座(1)內(nèi)部頂側。

4.根據(jù)權利要求3所述一種氮化鋁覆鋁陶瓷基板生產(chǎn)工藝，其特征在于：所述緊壓機構(7)包括固定連接于臺座(1)頂部左右兩側的外框架(71)、安裝于外框架(71)內(nèi)部左右兩側的兩個氣缸(72)、連接于氣缸(72)底端部的移位架(73)、滑動連接于移位架(73)頂部左側的側架(74)、滑動連接于移位架(73)頂部右側的矩形塊(75)以及設置于移位架(73)底側的滾壓結構(76)，所述側架(74)和矩形塊(75)頂部均與外框架(71)相緊固，所述移位架(73)左側插入滑動于外框架(71)內(nèi)部，所述滾壓結構(76)頂側貫穿設置于側架(74)內(nèi)部。

5.根據(jù)權利要求4所述一種氮化鋁覆鋁陶瓷基板生產(chǎn)工藝，其特征在于：所述滾壓結構(76)包括緊固于側架(74)右側的第一電機(761)、連接于第一電機(761)左側輸出端的第一錐齒輪(762)、嚙合于第一錐齒輪(762)頂部左側的第二錐齒輪(763)、貫穿設置于第二錐齒輪(763)內(nèi)部中側的轉桿(764)、包裹設置于轉桿(764)外表面底側的套塊(765)、連接于套塊(765)底側的第三錐齒輪(766)、嚙合傳動于第三錐齒輪(766)底部右側的第四錐齒輪(767)以及連接于第四錐齒輪(767)右側中部的壓輥(768)，所述轉桿(764)頂側貫穿轉動于側架(74)內(nèi)部，所述套塊(765)貫穿轉動于移位架(73)左側內(nèi)部，所述壓輥(768)右側中部與移位架(73)轉動連接，并且壓輥(768)左部中側貫穿轉動于移位架(73)內(nèi)部。

6.根據(jù)權利要求5所述一種氮化鋁覆鋁陶瓷基板生產(chǎn)工藝，其特征在于：所述轉桿(764)外表面底側縱向開設有條形槽(7641)，所述套塊(765)內(nèi)部設置有凸塊，并且凸塊插入滑動于條形槽(7641)內(nèi)側。

7.根據(jù)權利要求3所述一種氮化鋁覆鋁陶瓷基板生產(chǎn)工藝，其特征在于：所述打孔機構(8)包括左右兩側底部與臺座(1)相固定的門形架(81)、緊固于門形架(81)頂部左側的第二電機(82)、連接于第二電機(82)底部輸出端的抬壓結構(83)、連接于抬壓結構(83)底側的橫板(84)、緊固于抬壓結構(83)底部右側的連接頭(85)以及設置于連接頭(85)底部的壓孔結構(86)，所述抬壓結構(83)上下兩側分別貫穿設置于門形架(81)和橫板(84)內(nèi)部，所述橫板(84)左右兩側均與門形架(81)相固定。

8.根據(jù)權利要求7所述一種氮化鋁覆鋁陶瓷基板生產(chǎn)工藝，其特征在于：所述抬壓結構(83)包括與第二電機(82)底部輸出端相連接的軸桿(831)、包裹固定于軸桿(831)外表面中部的斜盤(832)、分別接觸滑動于斜盤(832)右部上下兩側的第一斜塊(833)和第二斜塊(834)、連接于第一斜塊(833)頂部的第一支套(835)、連接于第二斜塊(834)底部的第二支套(836)以及貫穿固定于第一支套(835)和第二支套(836)內(nèi)部的立桿(837)，所述軸桿(831)底部與橫板(84)轉動連接，所述立桿(837)底端部與連接頭(85)相緊固，所述立桿(837)右側上下兩部均開設有定位槽(8371)，并且立桿(837)上的兩個定位槽(8371)處分別呈縱向狀貫穿滑動于門形架(81)和橫板(84)內(nèi)部。

9.根據(jù)權利要求7所述一種氮化鋁覆鋁陶瓷基板生產(chǎn)工藝，其特征在于：所述壓孔結構(86)包括后部中側與連接頭(85)相緊固的框罩(861)，所述框罩(861)內(nèi)部中側緊固有槽架(862)，所述槽架(862)右側安裝有調(diào)位組件(863)，所述調(diào)位組件(863)前部左側連接有第一短桿(864)，所述第一短桿(864)另一端部轉動連接有長桿(865)，所述長桿(865)設置有九個，且兩兩之間轉動連接以依次排列分布于槽架(862)前側，位于最左側的長桿(865)上端與第二短桿(867)相連接，九個所述長桿(865)內(nèi)部中側均貫穿設置有第一插桿(866)，且第一插桿(866)后側與槽架(862)滑動連接，所述第二短桿(867)底側中部貫穿設置有第二插桿(868)，且第二插桿(868)后側與槽架(862)滑動連接，所述調(diào)位組件(863)貫穿設置于框罩(861)上部右側，所述框罩(861)前部中側橫向開設有通槽，并且第一插桿(866)和第二插桿(868)前部貫穿設置于通槽內(nèi)側。

10.根據(jù)權利要求9所述一種氮化鋁覆鋁陶瓷基板生產(chǎn)工藝，其特征在于：所述調(diào)位組件(863)包括緊固于槽架(862)右側的支承架(8631)、轉動連接于支承架(8631)內(nèi)部右側的蝸桿(8632)、固定連接于蝸桿(8632)頂端部的旋頭(8633)、嚙合傳動于蝸桿(8632)左側的蝸輪(8634)以及固定連接于蝸輪(8634)前部中側的連桿(8635)，所述旋頭(8633)貫穿轉動于框罩(861)上部右側，所述連桿(8635)后側與支承架(8631)轉動連接，并且連桿(8635)前端部與第一短桿(864)相連接。

說明書

技術領域

[0001]本發(fā)明涉及陶瓷基板材料技術領域，具體為一種氮化鋁覆鋁陶瓷基板生產(chǎn)工藝。

背景技術

[0002]氮化鋁陶瓷基板作為一種新型陶瓷基板，具有導熱效率高、較低的介電常數(shù)和介質(zhì)能耗，可靠的絕緣性能，優(yōu)良的力學性能，無毒耐高溫，耐化學腐蝕的特點;隨著微電子設備的迅猛發(fā)展，高導熱氮化鋁基板廣泛應用于通訊期間，高亮度LED，電力電子器件等行業(yè)，是一種性能優(yōu)秀的電子陶瓷材料。

[0003]目前，中國專利申請?zhí)枺篊N202111242796.8公開了一種氮化鋁陶瓷基板，由氮化鋁粉體、燒結助劑、抗彎復合材料、有機溶劑、消泡劑組成，其組分按重量份數(shù)計為：氮化鋁粉體70-90份、燒結助劑2-6份、抗彎復合材料8-12份、有機溶劑1-3份、消泡劑3-7份。

[0004]但是，現(xiàn)有技術在氮化鋁陶瓷基板的生產(chǎn)過程中，通常直接將鋁層涂覆在陶瓷基板表面，鋁層與陶瓷基板之間的相互作用力相對較小，并且在使用的流延設備中，不便對漿料的厚度進行調(diào)控，且對漿料中溶劑的蒸發(fā)效率較差，不便對制備薄膜的漿料進行處理，使該薄膜制成的基板與鋁層之間的連接效果較差，影響陶瓷基板的導電性和性能。

發(fā)明內(nèi)容

[0005]本發(fā)明的目的在于提供一種氮化鋁覆鋁陶瓷基板生產(chǎn)工藝，以解決上述背景技術中提出的問題。

[0006]為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采取以下技術方案：一種氮化鋁覆鋁陶瓷基板生產(chǎn)工藝，包括以下步驟：

[0007]S1、混合氮化鋁粉末與納米增強劑，使用高精度混合設備確保均勻分散，以形成混合漿料;

[0008]S2、采用流延設備將混合漿料制成均勻薄膜，并且在流延設備上將漿料間歇的進行隔段打孔，以增大部分位置的薄膜表面接觸面積;

[0009]S3、對薄膜采用熱等靜壓燒結工藝，并使帶孔的薄膜位于最上方，在高溫高壓下處理以形成表面帶凹槽的基板;

[0010]S4、對表面帶凹槽的基板進行等離子處理，然后通過真空濺射技術，均勻沉積鋁層在基板表面，以進行覆鋁處理;

[0011]S5、將覆鋁處理后的基板使用激光切割設備進行精確加工。

[0012]優(yōu)選的，所述納米增強劑為碳納米管和石墨烯的混合物。

[0013]優(yōu)選的，所述流延設備包括臺座、安裝于臺座內(nèi)部前側的驅動主體、連接于驅動主體頂側左部的輸送帶、安裝于輸送帶內(nèi)部前后兩側的兩個張緊輥以及從后至前依次排列設置于臺座頂部的漿液箱、緊壓機構、打孔機構和蒸發(fā)主體，所述漿液箱前側壁底部緊固有刮刀，所述輸送帶安裝于臺座內(nèi)部頂側。

[0014]優(yōu)選的，所述緊壓機構包括固定連接于臺座頂部左右兩側的外框架、安裝于外框架內(nèi)部左右兩側的兩個氣缸、連接于氣缸底端部的移位架、滑動連接于移位架頂部左側的側架、滑動連接于移位架頂部右側的矩形塊以及設置于移位架底側的滾壓結構，所述側架和矩形塊頂部均與外框架相緊固，所述移位架左側插入滑動于外框架內(nèi)部，所述滾壓結構頂側貫穿設置于側架內(nèi)部。

[0015]優(yōu)選的，所述滾壓結構包括緊固于側架右側的第一電機、連接于第一電機左側輸出端的第一錐齒輪、嚙合于第一錐齒輪頂部左側的第二錐齒輪、貫穿設置于第二錐齒輪內(nèi)部中側的轉桿、包裹設置于轉桿外表面底側的套塊、連接于套塊底側的第三錐齒輪、嚙合傳動于第三錐齒輪底部右側的第四錐齒輪以及連接于第四錐齒輪右側中部的壓輥，所述轉桿頂側貫穿轉動于側架內(nèi)部，所述套塊貫穿轉動于移位架左側內(nèi)部，所述壓輥右側中部與移位架轉動連接，并且壓輥左部中側貫穿轉動于移位架內(nèi)部。

[0016]優(yōu)選的，所述轉桿外表面底側縱向開設有條形槽，所述套塊內(nèi)部設置有凸塊，并且凸塊插入滑動于條形槽內(nèi)側。

[0017]優(yōu)選的，所述打孔機構包括左右兩側底部與臺座相固定的門形架、緊固于門形架頂部左側的第二電機、連接于第二電機底部輸出端的抬壓結構、連接于抬壓結構底側的橫板、緊固于抬壓結構底部右側的連接頭以及設置于連接頭底部的壓孔結構，所述抬壓結構上下兩側分別貫穿設置于門形架和橫板內(nèi)部，所述橫板左右兩側均與門形架相固定。

[0018]優(yōu)選的，所述抬壓結構包括與第二電機底部輸出端相連接的軸桿、包裹固定于軸桿外表面中部的斜盤、分別接觸滑動于斜盤右部上下兩側的第一斜塊和第二斜塊、連接于第一斜塊頂部的第一支套、連接于第二斜塊底部的第二支套以及貫穿固定于第一支套和第二支套內(nèi)部的立桿，所述軸桿底部與橫板轉動連接，所述立桿底端部與連接頭相緊固，所述立桿右側上下兩部均開設有定位槽，并且立桿上的兩個定位槽處分別呈縱向狀貫穿滑動于門形架和橫板內(nèi)部。

[0019]優(yōu)選的，所述壓孔結構包括后部中側與連接頭相緊固的框罩，所述框罩內(nèi)部中側緊固有槽架，所述槽架右側安裝有調(diào)位組件，所述調(diào)位組件前部左側連接有第一短桿，所述第一短桿另一端部轉動連接有長桿，所述長桿設置有九個，且兩兩之間轉動連接以依次排列分布于槽架前側，位于最左側的長桿上端與第二短桿相連接，九個所述長桿內(nèi)部中側均貫穿設置有第一插桿，且第一插桿后側與槽架滑動連接，所述第二短桿底側中部貫穿設置有第二插桿，且第二插桿后側與槽架滑動連接，所述調(diào)位組件貫穿設置于框罩上部右側，所述框罩前部中側橫向開設有通槽，并且第一插桿和第二插桿前部貫穿設置于通槽內(nèi)側。

[0020]優(yōu)選的，所述調(diào)位組件包括緊固于槽架右側的支承架、轉動連接于支承架內(nèi)部右側的蝸桿、固定連接于蝸桿頂端部的旋頭、嚙合傳動于蝸桿左側的蝸輪以及固定連接于蝸輪前部中側的連桿，所述旋頭貫穿轉動于框罩上部右側，所述連桿后側與支承架轉動連接，并且連桿前端部與第一短桿相連接。

[0021]與現(xiàn)有技術相比，本發(fā)明的有益效果是：

[0022]本發(fā)明混合氮化鋁粉末與納米增強劑后，采用流延設備將混合漿料制成均勻薄膜，并且在流延設備上將漿料間歇的進行隔段打孔，以增大部分位置的薄膜表面接觸面積，然后對薄膜采用熱等靜壓燒結工藝，并使帶孔的薄膜位于最上方，在高溫高壓下處理形成表面帶凹槽的基板，增加材料致密性和機械性能，然后對表面帶凹槽的基板進行等離子處理，進行表面清潔和活化，提高鋁層的附著力，再通過真空濺射技術，均勻沉積鋁層在基板表面，以進行覆鋁處理，且部分鋁層填充入基板的表面凹槽中，提高了基板與鋁層的連接效果，進一步提高陶瓷基板的導電性和性能。

[0023]本發(fā)明在氮化鋁覆鋁陶瓷基板的生產(chǎn)工藝中，優(yōu)化使用了流延設備，在流延設備的漿液箱前側壁底部緊固有刮刀，通過刮刀使?jié){液箱內(nèi)流出的漿料平鋪在輸送帶上，在漿料輸送移動至緊壓機構下方時對漿料壓緊壓實，以提高材料的致密性，然后在漿料通過打孔機構下方后進入蒸發(fā)主體內(nèi)對漿料的溶劑蒸發(fā)處理以制成薄膜，并且可使打孔機構定期啟動，以在薄膜上隔一段位置打出一片小區(qū)域的孔，以增大薄膜打孔部位的表面接觸面積，提高與其他材料的連接效果。

[0024]本發(fā)明通過第三錐齒輪和第四錐齒輪的配合使壓輥在移位架內(nèi)側進行旋轉，從而使壓輥在與漿料接觸后對平鋪的漿料進行擠壓，且通過壓輥高度位置的調(diào)節(jié)以控制漿料的厚度，轉桿外表面底側縱向開設有條形槽，套塊內(nèi)部設置有凸塊，并且凸塊插入滑動于條形槽內(nèi)側，以便于套塊在轉桿表面調(diào)節(jié)高度位置，且在套塊的高度移動后通過轉桿上條形槽與套塊內(nèi)凸塊的配合使套塊高度移動后仍可進行轉動。

[0025]本發(fā)明的長桿設置有九個，且兩兩之間轉動連接以依次排列分布于槽架前側，位于最左側的長桿上端與第二短桿相連接，九個長桿內(nèi)部中側均貫穿設置有第一插桿，且第一插桿后側與槽架滑動連接，第二短桿底側中部貫穿設置有第二插桿，且第二插桿后側與槽架滑動連接，在第一短桿轉動時帶動九個長桿和第二短桿進行展開，從而使第一插桿和第二插桿進行橫向移位后展開位置，以調(diào)節(jié)對平鋪的漿料的壓孔位置。

附圖說明

[0026]圖1為本發(fā)明流延設備的結構示意圖;

[0027]圖2為本發(fā)明緊壓機構的結構示意圖;

[0028]圖3為本發(fā)明滾壓結構的結構示意圖;

[0029]圖4為本發(fā)明打孔機構的結構示意圖;

[0030]圖5為本發(fā)明抬壓結構的結構示意圖;

[0031]圖6為本發(fā)明圖4中的壓孔結構的內(nèi)部結構仰視圖;

[0032]圖7為本發(fā)明調(diào)位組件的結構示意圖。

[0033]圖中：臺座-1、驅動主體-2、輸送帶-3、張緊輥-4、漿液箱-5、刮刀-6、緊壓機構-7、打孔機構-8、蒸發(fā)主體-9、外框架-71、氣缸-72、移位架-73、側架-74、矩形塊-75、滾壓結構-76、第一電機-761、第一錐齒輪-762、第二錐齒輪-763、轉桿-764、套塊-765、第三錐齒輪-766、第四錐齒輪-767、壓輥-768、條形槽-7641、門形架-81、第二電機-82、抬壓結構-83、橫板-84、連接頭-85、壓孔結構-86、軸桿-831、斜盤-832、第一斜塊-833、第二斜塊-834、第一支套-835、第二支套-836、立桿-837、定位槽-8371、框罩-861、槽架-862、調(diào)位組件-863、第一短桿-864、長桿-865、第一插桿-866、第二短桿-867、第二插桿-868、支承架-8631、蝸桿-8632、旋頭-8633、蝸輪-8634、連桿-8635。

具體實施方式

[0034]為了進一步解釋本發(fā)明的技術方案，下面通過具體實施例進行詳細闡述。

[0035]本發(fā)明提供一種氮化鋁覆鋁陶瓷基板生產(chǎn)工藝，包括以下步驟：

[0036]S1、混合氮化鋁粉末與納米增強劑，混合比例為95:5，使用高精度混合設備確保均勻分散，以形成混合漿料;

[0037]S2、采用流延設備將混合漿料制成均勻薄膜，并且在流延設備上將漿料間歇的進行隔段打孔，以增大部分位置的薄膜表面接觸面積;

[0038]S3、對薄膜采用熱等靜壓燒結工藝，并使帶孔的薄膜位于最上方，在高溫高壓下處理以形成表面帶凹槽的基板，增加材料致密性和機械性能;

[0039]S4、對表面帶凹槽的基板進行等離子處理，用于表面清潔和活化，提高鋁層的附著力，然后通過真空濺射技術，均勻沉積鋁層在基板表面，以進行覆鋁處理，提高導電性和性能;

[0040]S5、將覆鋁處理后的基板使用激光切割設備進行精確加工，確保產(chǎn)品符合規(guī)格。

[0041]其中，納米增強劑為碳納米管和石墨烯的混合物，碳納米管和石墨烯的混合比例為1:2，以提高導熱性和機械強度。

[0042]請參閱圖1，本發(fā)明提供一種氮化鋁覆鋁陶瓷基板生產(chǎn)工藝，流延設備包括臺座1、安裝于臺座1內(nèi)部前側的驅動主體2、連接于驅動主體2頂側左部的輸送帶3，以通過驅動主體2帶動輸送帶3進行移位動作，安裝于輸送帶3內(nèi)部前后兩側的兩個張緊輥4以及從后至前依次排列設置于臺座1頂部的漿液箱5、緊壓機構7、打孔機構8和蒸發(fā)主體9，輸送帶3安裝于臺座1內(nèi)部頂側，漿液箱5前側壁底部緊固有刮刀6，通過刮刀6使?jié){液箱內(nèi)流出的漿料平鋪在輸送帶上，在漿料輸送移動至緊壓機構7下方時對漿料壓緊壓實，以提高材料的致密性，然后在漿料通過打孔機構8下方后進入蒸發(fā)主體9內(nèi)對漿料的溶劑蒸發(fā)處理以制成薄膜，并且可使打孔機構8定期啟動，以在薄膜上隔一段位置打出一片小區(qū)域的孔，以增大薄膜打孔部位的表面接觸面積，提高與其他材料的連接效果。

[0043]請參閱圖1、圖2和圖3，本發(fā)明提供一種氮化鋁覆鋁陶瓷基板生產(chǎn)工藝，緊壓機構7包括固定連接于臺座1頂部左右兩側的外框架71、安裝于外框架71內(nèi)部左右兩側的兩個氣缸72、連接于氣缸72底端部的移位架73、滑動連接于移位架73頂部左側的側架74、滑動連接于移位架73頂部右側的矩形塊75以及設置于移位架73底側的滾壓結構76，在氣缸72的作用下使移位架73在側架74和矩形塊75底部作縱向高度位置的移動調(diào)節(jié)，從而改變滾壓結構76底部位置的高度，使其貼合在平鋪的漿料上對漿料產(chǎn)生擠壓，將漿料壓緊壓實的同時可排出部分溶劑，減少溶劑蒸發(fā)所需的時間，側架74和矩形塊75頂部均與外框架71相緊固，移位架73左側插入滑動于外框架71內(nèi)部，提高移位架73的穩(wěn)定性，滾壓結構76頂側貫穿設置于側架74內(nèi)部，以通過側架74起到支撐定位的作用。

[0044]其中，滾壓結構76包括緊固于側架74右側的第一電機761、連接于第一電機761左側輸出端的第一錐齒輪762、嚙合于第一錐齒輪762頂部左側的第二錐齒輪763、貫穿設置于第二錐齒輪763內(nèi)部中側的轉桿764，在第一電機761的作用下使第一錐齒輪762通過與第二錐齒輪763的配合帶動轉桿764進行旋轉，包裹設置于轉桿764外表面底側的套塊765、連接于套塊765底側的第三錐齒輪766、嚙合傳動于第三錐齒輪766底部右側的第四錐齒輪767以及連接于第四錐齒輪767右側中部的壓輥768，轉桿764頂側貫穿轉動于側架74內(nèi)部，套塊765貫穿轉動于移位架73左側內(nèi)部，壓輥768右側中部與移位架73轉動連接，并且壓輥768左部中側貫穿轉動于移位架73內(nèi)部，以通過第三錐齒輪766和第四錐齒輪767的配合使壓輥768在移位架73內(nèi)側進行旋轉，從而使壓輥768在與漿料接觸后對平鋪的漿料進行擠壓，且通過壓輥768高度位置的調(diào)節(jié)以控制漿料的厚度，轉桿764外表面底側縱向開設有條形槽7641，套塊765內(nèi)部設置有凸塊，并且凸塊插入滑動于條形槽7641內(nèi)側，以便于套塊765在轉桿764表面調(diào)節(jié)高度位置，且在套塊765的高度移動后通過轉桿764上條形槽7641與套塊765內(nèi)凸塊的配合使套塊765高度移動后仍可進行轉動。

[0045]請參閱圖1、圖4、圖5、圖6和圖7，本發(fā)明提供一種氮化鋁覆鋁陶瓷基板生產(chǎn)工藝，打孔機構8包括左右兩側底部與臺座1相固定的門形架81、緊固于門形架81頂部左側的第二電機82、連接于第二電機82底部輸出端的抬壓結構83、連接于抬壓結構83底側的橫板84、緊固于抬壓結構83底部右側的連接頭85以及設置于連接頭85底部的壓孔結構86，在第二電機82的作用下使抬壓結構83通過連接頭85帶動壓孔結構86進行上下的往復移位動作，從而通過壓孔結構86與漿料的接觸使?jié){料間歇的進行隔段打孔，使形成的薄膜上呈間斷式的具有孔槽，抬壓結構83上下兩側分別貫穿設置于門形架81和橫板84內(nèi)部，橫板84左右兩側均與門形架81相固定，起到支撐定位的作用。

[0046]其中，抬壓結構83包括與第二電機82底部輸出端相連接的軸桿831、包裹固定于軸桿831外表面中部的斜盤832，在第二電機82的作用下使軸桿831帶動斜盤832進行轉位動作，分別接觸滑動于斜盤832右部上下兩側的第一斜塊833和第二斜塊834、連接于第一斜塊833頂部的第一支套835、連接于第二斜塊834底部的第二支套836以及貫穿固定于第一支套835和第二支套836內(nèi)部的立桿837，通過斜盤832與第一斜塊833和第二斜塊834的配合使第一支套835和第二支套836帶動立桿837進行縱向移位，軸桿831底部與橫板84轉動連接，立桿837底端部與連接頭85相緊固，以在立桿837的作用下使連接頭85縱向移位，立桿837右側上下兩部均開設有定位槽8371，并且立桿837上的兩個定位槽8371處分別呈縱向狀貫穿滑動于門形架81和橫板84內(nèi)部，以起到支撐定位的作用，保證立桿837穩(wěn)定的進行上下移位動作。

[0047]其中，壓孔結構86包括后部中側與連接頭85相緊固的框罩861，框罩861內(nèi)部中側緊固有槽架862，槽架862右側安裝有調(diào)位組件863，調(diào)位組件863前部左側連接有第一短桿864，在調(diào)位組件863的作用下使第一短桿864進行轉動，第一短桿864另一端部轉動連接有長桿865，長桿865設置有九個，且兩兩之間轉動連接以依次排列分布于槽架862前側，位于最左側的長桿865上端與第二短桿867相連接，九個長桿865內(nèi)部中側均貫穿設置有第一插桿866，且第一插桿866后側與槽架862滑動連接，第二短桿867底側中部貫穿設置有第二插桿868，且第二插桿868后側與槽架862滑動連接，在第一短桿864轉動時帶動九個長桿865和第二短桿867進行展開，從而使第一插桿866和第二插桿868進行橫向移位后展開位置，以調(diào)節(jié)對平鋪的漿料的壓孔位置，調(diào)位組件863貫穿設置于框罩861上部右側，框罩861前部中側橫向開設有通槽，并且第一插桿866和第二插桿868前部貫穿設置于通槽內(nèi)側，以便于通過插桿對平鋪的漿料進行壓孔。

[0048]其中，調(diào)位組件863包括緊固于槽架862右側的支承架8631、轉動連接于支承架8631內(nèi)部右側的蝸桿8632、固定連接于蝸桿8632頂端部的旋頭8633、嚙合傳動于蝸桿8632左側的蝸輪8634以及固定連接于蝸輪8634前部中側的連桿8635，旋頭8633貫穿轉動于框罩861上部右側，連桿8635后側與支承架8631轉動連接，起到支撐限位的作用，保證連桿8635轉動的穩(wěn)定性，連桿8635前端部與第一短桿864相連接，轉動旋頭8633時通過蝸桿8632與蝸輪8634的配合使連桿8635帶動第一短桿864進行轉位動作。

[0049]本發(fā)明的一種氮化鋁覆鋁陶瓷基板生產(chǎn)工藝，流延設備的工作原理如下：

[0050]第一、通過臺座1將流延設備放置在需要制成薄膜的位置，然后在漿液箱5中加入氮化鋁粉末與納米增強劑混合形成的漿料，以對薄膜進行生產(chǎn)制備;

[0051]第二、漿液箱5中的漿料向下流動以鋪在輸送帶3上，然后隨著輸送帶3的移動使?jié){料被刮刀6刮平以平鋪在輸送帶3上方;

[0052]第三、在輸送帶3上平鋪的漿料進入緊壓機構7下方，使用者可控制啟動氣缸72，在氣缸72的作用下使移位架73在側架74和矩形塊75底部作高度位置向下的移動調(diào)節(jié)，從而改變壓輥768底部位置的高度，使其貼合在平鋪的漿料上對漿料產(chǎn)生擠壓，在移位架73向下移動的同時，套塊765隨著移位架73同步移位動作，在套塊765向下移動后通過轉桿764上條形槽7641與套塊765內(nèi)凸塊的配合使套塊765高度移動后仍可進行轉動，然后控制啟動第一電機761，在第一電機761的作用下使第一錐齒輪762通過與第二錐齒輪763的配合帶動轉桿764進行旋轉，轉桿764轉動時通過第三錐齒輪766和第四錐齒輪767的配合使壓輥768在移位架73內(nèi)側進行旋轉，從而使壓輥768在與漿料接觸后對平鋪的漿料進行擠壓，將漿料壓緊壓實的同時可排出部分溶劑，減少溶劑蒸發(fā)所需的時間;

[0053]第四、經(jīng)過壓緊壓實后的漿料進入打孔機構8下方，可轉動旋頭8633以通過蝸桿8632與蝸輪8634的配合使連桿8635帶動第一短桿864進行轉位動作，在第一短桿864轉動時帶動九個長桿865和第二短桿867進行展開，從而使第一插桿866和第二插桿868進行橫向移位后展開位置，以調(diào)節(jié)對平鋪的漿料的壓孔位置，然后間歇的通斷第二電機82，通過控制第二電機82啟動使軸桿831帶動斜盤832進行轉位動作，通過斜盤832與第一斜塊833和第二斜塊834的配合使第一支套835和第二支套836帶動立桿837進行縱向方向的往復移位，從而使立桿837通過連接頭85帶動第一插桿866和第二插桿868進行上下的往復移位動作，進而通過第一插桿866和第二插桿868與漿料的接觸使?jié){料間歇的進行隔段打孔，以呈間斷式的在漿料上所需的部位上形成孔槽，以增大漿料打孔部位的表面接觸面積;

[0054]第五、在對漿料打孔后，漿料進入蒸發(fā)主體9內(nèi)對漿料的溶劑蒸發(fā)處理，以制成隔一段位置具有一片小區(qū)域的孔的薄膜。

[0055]以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實例而已，并不用于限制本發(fā)明，盡管參照前述實施例對本發(fā)明進行了詳細的說明，對于本領域的技術人員來說，其依然可以對前述各實施例所記載的技術方案進行修改，或者對其中部分技術特征進行等同替換。凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。

說明書附圖(7)