本發(fā)明提供了一種用于潛指紋顯現(xiàn)的AIE
復(fù)合材料及其制備方法和顯現(xiàn)潛指紋的方法。本發(fā)明AIE復(fù)合材料包括載體以及吸附于所述載體的聚集誘導(dǎo)發(fā)光染料;其中,所述載體包括:蒙脫土,二氧化硅,以及磁粉中的一種或幾種;所述聚集誘導(dǎo)發(fā)光染料包括:水楊醛吖嗪,以及四苯基乙烯中的一種或幾種。本發(fā)明AIE復(fù)合材料可以用于潛指紋顯現(xiàn)技術(shù)中,以提高潛在手印的顯現(xiàn)成功率和清晰度。與傳統(tǒng)的潛指紋粉末顯現(xiàn)法相比,本發(fā)明AIE復(fù)合材料具有:1,不易受潮,2,對(duì)比度好,3,分辨率高,4,適用范圍廣泛,5,吸附均勻,6、無毒環(huán)保等優(yōu)勢(shì)。
聲明:
“用于潛指紋顯現(xiàn)的AIE復(fù)合材料及其制備方法和顯現(xiàn)潛指紋的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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