低密度炭/炭
復(fù)合材料C/SiC復(fù)合涂層及其制備工藝,該復(fù)合涂層由內(nèi)封孔層和外涂層兩部分組成;所述內(nèi)封孔層由以下重量百分比的原料制成:碳化硅粉10%~60%,硅粉1%~25%,石墨粉0.05%~8%,聚丙烯腈研磨
碳纖維1%~10%,硅溶膠40%~80%;所述外涂層由以下重量百分比的原料制成:碳化硅粉10%~30%,樹脂40%~60%,稀釋劑30%~70%,固化劑1%~6%。本發(fā)明還包括所述低密度炭/炭復(fù)合材料C/SiC復(fù)合涂層的制備工藝。本發(fā)明之低密度炭/炭復(fù)合材料C/SiC復(fù)合涂層具有較好抗氧化能力,涂層與基體材料的結(jié)合力好,表面致密,無裂紋產(chǎn)生,無落粉現(xiàn)象。
聲明:
“低密度炭/炭復(fù)合材料C/SiC復(fù)合涂層及其制備工藝” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)