本發(fā)明涉及電機材料制備技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種0D / 2D納米層狀結(jié)構(gòu)Si?RGO
復(fù)合材料的制備方法,通過混合、封端、制備SiNPs分散液、涂布、沖壓、熱處理等步驟制取得到納米層狀結(jié)構(gòu)Si?RGO復(fù)合材料,利用本方法制造出的Si?RGO復(fù)合材料均勻,緊湊,機械強度高,能量密度高,同時該方法無粘結(jié)劑的加入,節(jié)約了成本。
聲明:
“0D / 2D納米層狀結(jié)構(gòu)Si-RGO復(fù)合材料的制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)