本發(fā)明公開了一種抑制內(nèi)部空間電荷的交聯(lián)聚乙烯
復(fù)合材料及其制備方法和應(yīng)用,所述復(fù)合材料由低密度聚乙烯和SiC納米粒子在交聯(lián)劑的輔助下復(fù)合而成;所述SiC納米粒子含量為1~5wt%;所述聚合物基體為低密度聚乙烯,密度分布為0.910~0.925mg/cm3,融化指數(shù)為2.1~2.2g/10min,熔點為105℃~112℃。本發(fā)明制備的XLPE/SiC復(fù)合介質(zhì),內(nèi)部的空間電荷密度小于未添加納米粒子的交聯(lián)聚乙烯,說明SiC納米粒子能夠有效的改善交聯(lián)聚乙烯內(nèi)部的空間電荷分布,削弱電場的畸變。
聲明:
“抑制內(nèi)部空間電荷的交聯(lián)聚乙烯復(fù)合材料及其制備方法和應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)