本發(fā)明公開了一種基于二維納米級ZIF?90/C₃N₄納米片復(fù)合材料的混合基質(zhì)膜的制備方法，屬于膜分離技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明首先通過酸蝕法制備了納米級的C₃N₄納米片作為模板，隨后采用原位生長技術(shù)在該納米片表面生長了大量連續(xù)的ZIF?90納米顆粒，得到了二維納米級ZIF?90/C₃N₄納米片復(fù)合材料，并使用該材料與Pebax?1657基質(zhì)共混制備混合基質(zhì)膜.所述制備方法使用二維納米級ZIF?90/C₃N₄納米片復(fù)合材料作為填料，有助于構(gòu)筑氣體擴(kuò)散方向(豎直方向)上的ZIF?90連續(xù)通道，降低氣體傳質(zhì)阻力，提高了混合基質(zhì)膜對于CO₂的滲透速率及CO₂/N₂選擇性。