本發(fā)明公開(kāi)了一種制備人工反鐵磁體復(fù)合材料的方法，要解決的是現(xiàn)有人工反鐵磁復(fù)合材料方法的成本昂貴和制備周期長(zhǎng)的問(wèn)題。本發(fā)明具體步驟如下：步驟一，將鑲嵌靶放入真空濺射室的靶位，將基片固定在真空濺射室的基片臺(tái)上，向真空濺射室通入工作氣體，形成真空度；步驟二，在基片上濺射緩沖層；步驟三，在緩沖層上濺射生長(zhǎng)亞鐵磁層I，基片自然冷卻；步驟四，在亞鐵磁層I上繼續(xù)濺射生長(zhǎng)亞鐵磁層II，最后在基片上濺射生長(zhǎng)保護(hù)層，即得到成品。本發(fā)明在稀土?過(guò)渡合金薄膜中通過(guò)直接制備生長(zhǎng)的樣品層間界面處的直接交換耦合作用，工藝簡(jiǎn)單，成本低廉，制備周期短，重復(fù)性好，可應(yīng)用于磁電及磁傳感器件和超快高密度存儲(chǔ)領(lǐng)域中。