本發(fā)明公開了一種量子點(diǎn)勻光
復(fù)合材料及其制備工藝,所述量子點(diǎn)勻光復(fù)合材料包括量子點(diǎn)基底和設(shè)于所述量子點(diǎn)基底上的若干個微結(jié)構(gòu),所述微結(jié)構(gòu)包括微透鏡結(jié)構(gòu)和/或凹鏡結(jié)構(gòu),所述微透鏡結(jié)構(gòu)包括凹陷結(jié)構(gòu)和/或凸起結(jié)構(gòu),相鄰的微透鏡結(jié)構(gòu)之間部分重疊,所述凹鏡結(jié)構(gòu)包括若干個具有設(shè)定形狀的凹鏡體。本申請通過在量子點(diǎn)膜上設(shè)置微結(jié)構(gòu)來實(shí)現(xiàn)勻光膜的效果,可以在背光模組中減少使用至少一層勻光膜,從而降低整個背光模組的厚度。
聲明:
“量子點(diǎn)勻光復(fù)合材料及其制備工藝” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)