本發(fā)明提供一種低發(fā)射率
復(fù)合材料及其制備方法,具體地說是一種用氮化鈦與金屬摻雜的復(fù)合材料及制備方法。具體是采用磁控反應(yīng)濺射法,濺射氣體為氬氣,反應(yīng)氣體為高純氮氣,設(shè)備使用一臺雙靶磁控濺射鍍膜機(jī),首先在基材上磁控反應(yīng)濺射沉積一層的氮化鈦(TiN),再沉積一層銅(Cu),再沉積一層的氮化鈦(TiN),如是一個周期,重復(fù)上述步驟至少在基材上反應(yīng)濺射兩個周期,最終形成基材/TiN/Cu(Al)/TiN/Cu(Al)/TiN。
聲明:
“低發(fā)射率復(fù)合材料及制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)