本實(shí)用新型公開了一種基于脈沖高能量密度等離子體的多等離子體源
復(fù)合材料表面改性裝置,包括:真空室、脈沖高能量密度等離子體槍、大功率真空陰極弧等離子體源、和熱燈絲氣體等離子體源,脈沖高能量密度等離子體槍和大功率真空陰極弧等離子體源分別對(duì)稱安裝于所述真空室的A(A’)、B(B’)端口處,熱絲氣體等離子體源設(shè)置在所述真空室的C端口處,所述真空室底部還安裝有可調(diào)轉(zhuǎn)速的旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)D。本實(shí)用新型擁有三個(gè)等離子體源,實(shí)現(xiàn)在同一裝置中引入多種等離子體機(jī)制,使得金屬、氣體離子同存,增強(qiáng)反應(yīng)效率,提高成膜質(zhì)量。適用于包括陶瓷材料在內(nèi)的各種金屬、非金屬、有機(jī)、無(wú)機(jī)材料的表面沉積注入處理。
聲明:
“脈沖高能量密度等離子體輔助多源復(fù)合材料表面改性裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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