本發(fā)明涉及一種光譜響應(yīng)電致變色薄膜光譜特性與絕緣性能的調(diào)控方法,包括以下步驟:在硅基底上制備電致變色/絕緣
復(fù)合材料薄膜,其中,通過調(diào)控絕緣材料在復(fù)合材料薄膜中的配比,控制電阻率的變化;在所述復(fù)合材料薄膜表面蒸鍍金作為金電極,形成金電極?聚合物薄膜?硅電極的三明治結(jié)構(gòu)器件;利用紫外可見光譜測試所述結(jié)構(gòu)器件的光譜信息,確定所述結(jié)構(gòu)器件的光學(xué)透過率;利用Agilent Keysight B2900A Quick IV測試儀測試所述結(jié)構(gòu)器件在不同額定電壓作用下的工作電流,獲取所述結(jié)構(gòu)器件在不同外施電壓下的電阻率的值,確定所述結(jié)構(gòu)器件的絕緣性能;獲取絕緣性能與光學(xué)透過率最佳的金電極?聚合物薄膜?硅電極的三明治結(jié)構(gòu)器件。
聲明:
“光譜響應(yīng)電致變色薄膜光譜特性與絕緣性能的調(diào)控方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)