一種用于半導體處理裝置中襯底支撐組件的加熱板,其包括以可擴展的多路布置方案設置的多個獨立可控的平面加熱器區(qū)域,以及獨立控制平面加熱器區(qū)域并給平面加熱器區(qū)域提供功率的電子器件。每個平面加熱器區(qū)域包括由絕緣體?導體
復合材料制成的一個或多個加熱器元件。包含加熱板的襯底支撐組件包括靜電夾持電極和溫度可控的基板。制備所述加熱板的方法包括將具有平面加熱器區(qū)域、功率供給線、功率回線和通孔的陶瓷板結合在一起。
聲明:
“用于半導體處理的具有平面加熱器區(qū)域的加熱板” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
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